一、由于常壓等離子的噴嘴中是直噴出的離子，這種情況由噴嘴的結構間接的改變了離子的運動方向（直接面對被處理材料）。從而使大氣等離子在流水線上只能處理一個表面，這也是與真空等離子清洗*大的區別之一。真空等離子清洗機在工作中，腔體內部的離子是不定向的，只要材料在腔體裸露出的部分，不管是哪個面哪個角落都可以清洗得到。

二、在使用氣體方面，大氣型等離子工作時只需要接入壓縮空氣，當然想效果更好直接接入氮氣。而真空型等離子清洗機在氣體上會有更多的選擇，并且可以選擇多種氣體進行匹配對材料表面氧化物、納米級別微生物的去除有著極強的改善。在這里要強調的是：大氣型通入氣體的目的主要是為了活化，侵潤性增強。而真空型通入氣體的目的是為了增強蝕刻效果，去除污染物，去除有機物，侵潤性增強等。顯然氣體的選擇范圍更廣，真空等離子清洗的工藝會應用得更為廣泛。

三、溫度。大氣等離子清洗機雖然處理材料幾秒之后的溫度在60°-75°左右，但這個數據是按照噴槍距離材料15mm，功率在500W，配合在三軸速度為120mm/s來測的。當然功率，接觸時間，處理的高度都會對溫度有所影響。特別注意的是：大氣等離子清洗機噴槍工作時的噴出的“火焰”分為內焰和外焰，我們清洗時都是拿外焰去洗，內焰在噴嘴里面，從外面是看不到的。但是如果在噴出“火焰”的情況下長時間對著某一個點不運動進行處理很容易對表面產生灼燒。所以大氣等離子的溫度要在實際工況下才能測得具體數值。

而真空型等離子清洗機就沒那么復雜，按電源頻率劃分，40KHz和13.56MHz為例：通常情況下材料放入腔體內工作，頻率為40KHz一般溫度為65°以下，再者機器內部裝有強冷風扇，處理時間不長的話，材料表面溫度都會跟室溫一致。頻率為13.56MHz的就會更低，通常情況是30°以下。所以處理一些受熱易發生形變的材料，低溫真空型等離子清洗機的是在再適合不過了。

四、離子產生條件，這個比較直觀的就可以看出，大氣型依賴接入氣體，氣體壓力要達到0.2mpa左右才可以產生離子。而真空型則依賴于真空泵，產生離子之前，即使不接入任何外接氣體，要將腔體內部的真空度抽到25pa以下才能產生離子。