等離子噴涂的基礎發展了新的技術

1.真空等離子噴涂（又叫低壓等離子噴涂）

真空等離子噴涂是在氣氛可控的，4～40Kpa的密封室內進行噴涂的技術。
因為工作氣體等離子化后，是在低壓氣氛中邊膨脹體積邊噴出的，所以噴流速度是超音速的，而且非常適合于對氧化高度敏感的材料。

2.水穩等離子噴涂

前面說的等離子噴涂的工作介質都是氣體，而這種方法的工作介質不是氣而是水，它是一種高功率或高速等離子噴涂的方法，其工作原理是：
噴槍內通入高壓水流，并在槍筒內壁形成渦流，這時，在槍體后部的陰極和槍體前部的旋轉陽極間產生直流電弧，使槍筒內壁表面的一部分蒸發、分解，變成等離子態，產生連續的等離子弧。由于旋轉渦流水的聚束作用，其能量密度提高，燃燒穩定，因此，可噴涂高熔點材料，特別是氧化物陶瓷，噴涂效率非常高

3.氣穩等離子噴涂

氣穩等離子噴涂的原理是由等離子噴槍（等離子弧發生器）產生等離子射流（電弧焰流）。噴槍的電極（陰極）和噴嘴（陽極）分別接整流電源的正、負極，向噴槍供給工作氣體（Ar、N2等），通過高頻火花引燃電弧。電弧將氣體加熱到很高的溫度，使氣體電離，在熱收縮效應、自磁收縮效應和機械效應的作用下，電弧被壓縮，產生非轉移性等離子弧。高溫等離子氣體從噴嘴噴出后，體積迅速膨脹，形成高溫高速等離子射流。送分氣流推動粉末進入等離子射流后，被迅速加熱到熔融或半熔融狀態，并將等離子射流加速，形成飛翔基材的噴涂離子束，陸續撞擊到經預處理的基材表面，形成涂層。大氣等離子噴涂用氬氣、氮氣、氫氣作為等離子氣。等離子處理機對各種電路板的表面處理

1.噴射出的等離子體流為中性，不帶電 ，可以對各種高分子、金屬、半導體、橡膠、PCB電路板等材料進行表面處理。

2.等離子表面處理器處理后去除了碳化氫類污物，如油脂，輔助添加劑，有利于粘結、性能持久穩定，保持時間長。

3.溫度低、適合運用于那些表面材料對溫度敏感的制品。

4.不需要箱體，可以直接安裝在生產線上，在線運行處理。相對與磨邊機的反向運行，大大提高了工作效率。

5.只消耗空氣和電，因此運行成本低，操作更安全。

6.干式方法處理無污染，無廢水，符合環保要求；并且替代了傳統的磨邊機，杜絕了紙粉紙毛對環境及設備的影響。

7.經等離子表面處理器處理后，可采用普通膠水來粘盒，降低了生產成本。

等離子處理設備工作原理

廢氣處理中洗滌系統用來和廢氣在洗滌塔內進行預處理化學反應，去處粉塵且通過化學反應后的氣體達到廢氣一級凈化處理，具體包括專用填料、噴淋裝置、脫水層、風機、加藥系統等。

低溫等離子凈化器內部裝有獨特的碰吸單元，截留去除廢氣中的顆粒物質，廢氣收集系統收集的多元素氣體經過等離子活性氧凈化裝置，在高壓等離子電場的作用下，電離初始態氧將其中的廢氣離子進行電離荷電凈化，帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲塵箱內，氣體內的有害氣體被電場內所產生的臭氧所殺菌，并去除了異味，有害氣體被除掉,達到廢氣處理的目的。

吸附催化凈化處理裝置是一種干式廢氣處理設備。由箱體和裝填在箱體內的吸附單元組成，吸附單元根據廢氣處理要求添加催化劑達到進一步去處異味氣體的目的?？刂葡到y主要用來控制系統開機、停運，并對系統運行效果進行檢測，反饋。

等離子處理設備工藝流程

氣體收集系統—預處理噴淋洗滌系統—低溫等離子凈化系統—深度氣體吸附催化系統—排放系統—控制系統氣體收集系統主要是將構筑物自由揮發的氣體收集起來并輸送到后續處理系統。具體包括氣罩系統、管道輸送系統和風機。